非接触式半導体ウェハー厚み測定
非接触式ウェハーフラットネス・厚み測定機
ウェハーサンプルのフラットネス,厚み、
TTV(Total thickness Variation),
WARP and BOW, Film stress, 抵抗値、シート抵抗、P/N判定器
E+H metrology GmbH製ウェハーフラットネス測定システム
概要：E+H metrology Gmbhは1968年にドイツKarlsruheでWilfried Eichhornと Taddaeus Hausmannの２名で設立された非接触式の静電容量式センサーメーカーです。
主に半導体ウェハーメーカー、半導体ウェハー再生メーカー、半導体デバイスメーカー様にご採用頂いております。
主に半導体ウェハーメーカー、半導体ウェハー再生メーカー、半導体デバイスメーカー様にご採用頂いております。
測定項目
Wafer形状
-ウェハー厚み(Thickness) Waviness, Saw mark,
-ウェハー表面粗さ, Nano topography
電気特性(ウェハー抵抗値、シート抵抗、P/N判定)
