ものづくりのトータルソリューションプロバイダー / 産業新技術のプロモーター　[伊藤忠マシンテクノス]

エース株式会社

特徴/設計コンセプト

1. 操作系は装置前面に集中配置
2. 大画面ユーザーインターフェース搭載
3. スリムな筐体によるフットプリント低減
4. 勝手違いで「右仕様」「左仕様」の密着設置可能
5. ガスパネル、排気系は背面に集中配置
6. 枚葉プロセス、連続成膜による均一性向上
   

• 硬質で緻密な成膜が可能なモノシラン常圧ＣＶＤプロセスを提供 ウェーハ裏面吸着で基板のソリを矯正、均一な温度管理により安定した成膜プロセスを実現 成膜均一性は±２％程度 フェースダウン成膜による優れたパーティクル制御特性
• 設備導入コスト削減に貢献 シンプル＆コンパクトな装置構成（設置場所制約が少ない） 他に付帯設備もなく、さらに汎用的な排ガス処理装置で対応可能、並列運用も可能
• 装置運用コスト削減に貢献 省エネ（ガス、電気）を考慮したソフト/ハード設計 装置内で使用されている部品は一般汎用部品を利用
• 装置メンテンスコスト削減に貢献 消耗部品が無く（電池等安価品除く）、オーバーホール（定期的1年2年で必要）部品もありません 定期メンテンスはわずか１５分程度で非常に容易、工具は全く必要ありません
• サポート体制 デモ機によるプロセステスト、プロセス開発などのデモ支援が可能です。 装置ハードウェア、ソフトウェアも設計、開発、製造まで、一貫した自社構築しています。 お客様のカスタマイズ仕様も対応します。 納入前、納入後の装置ハードウェア、制御、システム管理、量産運用面をバックアップします。

この常圧ＣＶＤ装置はお客様の声（疑問、要求）に耳を傾け、当社として築き上げた装置です。
こんな当社に賛同していただけるお客様ですでに納入実績もあり、トラブルも無く運用されています。